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plasma cleaner旋轉(zhuǎn)型真空等離子清洗機(jī)
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射頻等離子體處理儀 德國diener
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等離子體處理儀 表面等離子體
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CF4等離子刻蝕儀
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等離子處理系統(tǒng)
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小型等離子發(fā)生器
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等離子刻蝕機(jī)
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氧氣等離子清洗機(jī)
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等離子刻蝕與沉積設(shè)備
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微波等離子清洗機(jī)
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VPS-MF15真空等離子去膠機(jī)
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線性寬幅等離子清洗機(jī)
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深圳深光達(dá)科技有限公司
我們注于等離子(PLASMA)清洗工藝技術(shù)和相關(guān)裝備的研發(fā)生產(chǎn),核心技術(shù)源自歐美二十年等離子體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。公司核心團(tuán)隊(duì)來自中科院等離子體物理研究所、德國Diener、中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)、北京大學(xué)等國內(nèi)科研機(jī)構(gòu),其開發(fā)的等離子清洗裝備已廣泛應(yīng)用于高校、半導(dǎo)體、汽車、電子行業(yè)、3C行業(yè)、印刷行業(yè)生物等行業(yè)域。深光達(dá)科技成立至已為清華大學(xué)、西安交通大學(xué)、比亞迪、蘭州大學(xué)、深圳大學(xué)、香港大學(xué)、提供過等離子處理設(shè)備和解決方案,我們將不斷為材料表面處理開發(fā)創(chuàng)新方案,致力于為用戶提供等離子表面處理與檢測整體解決方...
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等離子技術(shù)解決方案

Plasma technology solutions

等離子活化

Plasma Activation

等離子刻蝕

Plasma Etching

等離子清洗

Plasma Cleaning

等離子涂層

Plasma Coating
技術(shù)文章 公司新聞 查看更多
  • 真空等離子去膠機(jī)的選型與使用指南

    真空等離子去膠機(jī)作為一種高效、環(huán)保且精確的設(shè)備,能夠有效去除光刻膠,同時(shí)避免對基底材料造成損傷。然而,面對市場上眾多的真空等離子去膠機(jī)品牌和型號,如何選擇合適的設(shè)備并正確使用,是每個(gè)用戶都需要考慮的問題。以下是一份等離子去膠機(jī)的選型與使用指南,幫助用戶更好地了解和應(yīng)用這一設(shè)備。一、選型要點(diǎn)(一)工藝需求匹配在選擇等離子去膠機(jī)時(shí),首先要明確自己的工藝需求。不同的應(yīng)用場景對去膠機(jī)的要求不同。例如,在半導(dǎo)體制造中,可能需要去除高分辨率光刻膠,這就要求設(shè)備具有高精度和高均勻性的等離子...

    2025-11-20
  • 有哪些方法可以解決真空等離子去膠機(jī)的故障

    真空等離子去膠機(jī)在半導(dǎo)體封裝、微電子制造等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,其故障直接影響生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。以下是基于設(shè)備原理及實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)總結(jié)的常見故障解決方案:一、真空系統(tǒng)故障-真空度不足或無法抽真空-密封件老化:檢查腔門密封圈、管道接口處的O型圈是否磨損,及時(shí)更換變形或開裂的密封件。-真空泵異常:觀察泵組運(yùn)行聲音及油位,若機(jī)械泵油乳化或分子泵報(bào)錯(cuò),需更換潤滑油或維修泵組。-氣路泄漏:使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢測氣體管路,重點(diǎn)排查減壓閥、流量計(jì)連接處,緊固松動接頭或更換破損管路。-真空報(bào)警誤觸發(fā)-壓力...

    2025-11-18
  • 真空等離子去膠機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

    光刻膠的去除是半導(dǎo)體制造過程中一個(gè)至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。光刻膠在光刻工藝中用于定義微小的電路圖案,但在后續(xù)的蝕刻或離子注入等工藝完成后,需要將其清除,以避免殘留物對芯片性能產(chǎn)生負(fù)面影響。真空等離子去膠機(jī)憑借其高效、清潔和精準(zhǔn)的特點(diǎn),已成為半導(dǎo)體行業(yè)中的設(shè)備。一、高效去除光刻膠,保障工藝連續(xù)性真空等離子去膠機(jī)的核心優(yōu)勢在于其能夠高效、地去除光刻膠。在半導(dǎo)體制造中,光刻膠的殘留可能導(dǎo)致電路短路、漏電或其他性能問題,因此光刻膠的去除是確保芯片質(zhì)量的關(guān)鍵。等離子去膠機(jī)通過等離子體的化學(xué)和物...

    2025-11-17
  • 真空等離子去膠機(jī):高效清潔,助力半導(dǎo)體制造

    在半導(dǎo)體制造和微電子加工領(lǐng)域,去除光刻膠是工藝流程中的關(guān)鍵步驟之一。光刻膠在完成其保護(hù)和圖案轉(zhuǎn)移的使命后,必須被清除,以確保后續(xù)工藝的順利進(jìn)行。傳統(tǒng)的去膠方法,如濕法化學(xué)清洗和機(jī)械擦洗,不僅效率低下,還可能對基底造成損傷。真空等離子去膠機(jī)的出現(xiàn),為這一問題提供了高效、環(huán)保且精準(zhǔn)的解決方案。它通過等離子體技術(shù),在真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)對光刻膠的快速去除,同時(shí)保護(hù)基底材料不受損害。一、工作原理真空等離子去膠機(jī)的核心在于等離子體技術(shù)的應(yīng)用。等離子體是一種高度電離的氣體狀態(tài),其中包含大量的自...

    2025-11-11
  • 真空等離子去膠機(jī):實(shí)現(xiàn)環(huán)保高效去膠的創(chuàng)新解決方案

    傳統(tǒng)的去膠方法,如濕法化學(xué)剝離和熱烘烤,不僅效率低下,還可能對環(huán)境造成污染。隨著環(huán)保意識的增強(qiáng)和技術(shù)的進(jìn)步,真空等離子去膠機(jī)作為一種環(huán)保高效的去膠技術(shù),逐漸成為行業(yè)的解決方案。它通過物理和化學(xué)的協(xié)同作用,實(shí)現(xiàn)了快速、且環(huán)保的去膠效果。一、工作原理此等離子去膠機(jī)的核心技術(shù)是利用等離子體的高能粒子來分解和去除光刻膠。在真空環(huán)境中,氣體被電離成等離子態(tài),產(chǎn)生大量的高能電子、離子和自由基。這些高能粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將其分解為小分子氣體,隨后通過真空系統(tǒng)排出。整個(gè)過程在低溫下進(jìn)...

    2025-11-13
  • 大氣等離子清洗機(jī)選購指南:處理幅面、功率與適配材料的考量

    大氣等離子清洗機(jī)作為一種表面處理設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、材料、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。它利用等離子體的高能量特性,能夠有效去除材料表面的有機(jī)污染物、氧化層,改善表面的親水性或疏水性,從而為后續(xù)的工藝步驟(如粘接、涂覆、鍍膜等)提供理想的表面狀態(tài)。然而,面對市場上眾多品牌和型號的大氣等離子清洗機(jī),如何選擇一款適合自身需求的設(shè)備呢?本文將從處理幅面、功率和適配材料三個(gè)方面為您提供一份詳細(xì)的選購指南。一、處理幅面:滿足工藝需求處理幅面是選購大氣等離子清洗機(jī)時(shí)需要重點(diǎn)考慮的因素之一。不同的...

    2025-10-13
  • 大氣等離子清洗機(jī):精細(xì)清洗,為材料表面處理提供精準(zhǔn)解決方案

    一、引言無論是電子制造、航空航天、汽車工業(yè),還是生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,材料表面的清潔度和活性直接影響到產(chǎn)品的可靠性和使用壽命。傳統(tǒng)的清洗方法往往存在清洗不che底、對環(huán)境不友好等問題,難以滿足高精度、高潔凈度的表面處理需求。大氣等離子清洗機(jī)的出現(xiàn),以其精細(xì)、高效、環(huán)保的特點(diǎn),為材料表面處理提供了一種全新的精準(zhǔn)解決方案。二、原理利用等離子體的物理和化學(xué)特性來實(shí)現(xiàn)材料表面的清洗和改性。等離子體是一種部分電離的氣體,其中包含大量的自由電子、離子和活性自由基。在大氣等離子清洗過程中,氣體被...

    2025-09-08
  • 大氣等離子清洗機(jī)操作復(fù)雜嗎?

    大氣等離子清洗機(jī)能夠有效去除材料表面的有機(jī)物、無機(jī)物、氧化物、碳化物等污染物。這種清洗方式不僅速度快,而且清洗效果che底,能夠達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法難以實(shí)現(xiàn)的清潔度。例如,在電子制造領(lǐng)域,大氣等離子清洗機(jī)可以去除芯片表面的微小顆粒和有機(jī)殘留物,確保芯片的高性能和高可靠性。以下是關(guān)于它操作復(fù)雜性的一些分析:一、操作流程簡單操作流程較為直觀。使用前,只需檢查設(shè)備的電源、氣源等是否正常連接,然后將待清洗物品放入清洗室,關(guān)閉清洗室門。接著,啟動設(shè)備,設(shè)定好清洗時(shí)間和功率等參數(shù),按下啟動按...

    2025-08-26
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